Plasma-Overfladebehandlingssystem | Nano - Lavtryks Plasmasystem, Plasma-Overfladebehandlingssystem, Plasma Rengøringsmiddel

Plasma-systemer fra Diener electronic har længe etableret sig i en bred vifte af industrielle sektorer. Med Nano lavtryks plasma-systemet kan du stole på moderne og fremtidssikret kold plasma-teknologi i et vakuum. Kammerets volumen på 18 op til 24 liter i dette plasma-system tilbyder nok plads til at betjene både laboratorie- og serieproduktion. Plasma-behandling i lavtryks plasma er en velprøvet teknik til kontrolleret ultrafin rengøring, forbedring af vedhæftning (aktivering og ætse) og belægning af tynde lag på substratoverflader. Plasma genereres ved at anvende højfrekvent spænding i vakuumkammeret. I processen ioniseres procesgassen, der introduceres der. Anvendelsesområder: - VOC-fri rengøring af organiske rester. - Aktivering før maling, limning, indkapsling, ... - Ætsning af PTFE, fotoresist, oxidlag, ... - Super-hydrofobe og -hydrofile belægninger Dimensioner (Bordmodel): 560 mm x 600 - 860 mm x 600 mm (BxHxD) Dimensioner (Stående model): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (BxHxD) Vakuumkammer materiale: Rustfrit stål, Aluminium, Silica glas (UHP), Borosilikat (HP) Vakuumkammer dimensioner: ca. B 240 mm x H 240 mm x D 400 - 420 mm; Ø 267 mm, D 400 - 420 mm Vakuumkammer volumen: ca. 18 - 24 liter Vakuumkammer lukning: Låg, hængslet dør Gasforsyning: Nålventiler eller massestrømsregulatorer (MFC'er) Trykmåling: Pirani, Kapacitetsmanometer Generator: 100 kHz; 80 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Elektroder: I henhold til kundens krav Kontroller: Semiautomatisk, Drejekontakt, Basis PC (Win.CE), Fuldt PC (Win.10 IoT) Strømforsyning: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vakuumpumpe: Kapacitet: 16 m³/h