Plasma-overfladebehandlingssystem | Femto - Lavtryksplasmaanlæg, Plasma-overfladebehandlingssystem, Plasma Cleaner

Plasmaanlæg fra Diener electronic har længe vundet indpas i de forskellige industrisektorer. Med lavtryks plasmaanlægget Femto satser du på moderne og fremtidssikret kold plasmateknologi i vakuum. Kammervolumenet på 2 til 3 liter i dette plasmasystem giver tilstrækkelig plads til at betjene laboratorier og småseriefremstillinger. Plasmabehandling i lavtryksplasma er en velprøvet teknik til kontrolleret finrengøring, forbedring af adhæsion (aktivering og ætsning) samt belægning af tynde lag på substratoverflader. Plasma genereres ved brug af højfrekvent spænding i vakuumkammeret. Det procesgas, der indføres der, ioniseres. Anvendelsesområder: - VOC-fri rengøring af organiske rester - Aktivering før lakering, limning, støbning, … - Ætsning af PTFE, fotolak, oxidlag, … - Super-hydrofobe og -hydrofile belægninger Dimensioner (bordmodel): 310 - 560 mm x 211 - 860 mm x 420 - 600 mm (BxHxD) Dimensioner (standmodel): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (BxHxD) Vakuumkammer materiale: Rustfrit stål, aluminium, kvartsglas (UHP), borosilikatglas (HP) Vakuumkammer dimensioner: Ø 95/100 mm, T 280/278 mm, 103-110 mm x 103-120 mm x 285-300 mm (BxHxD) Vakuumkammer volumen: Ca. 2 - 3 liter Vakuumkammer lukning: Låg, dør med hængsel Gasforsyning: Nålventiler eller Mass Flow Controllers (MFCs) Generator: 40 kHz; 100 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Trykmåling: Pirani, kapacitetsmanometer Elektroder: efter kundens ønske Kontrol: Halvautomatisk, drejekontakt, Basic PC (Win. CE), Full PC (Win. 10 IoT) Strømforsyning: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vakuumpumpe: Sugestyrke min. 3 m³/h