peek-ring til cmp-processen

...PEEK CMP-ringen er designet til optimal ydeevne i kemisk mekanisk polering (CMP) processer, og tilbyder overlegen holdbarhed og kemisk modstand. Fremstillet af højtydende Polyether Ether Ketone (PEEK), udmærker disse ringe sig i højtemperaturmiljøer og viser fremragende slidstyrke, hvilket gør dem ideelle til krævende applikationer i halvlederindustrien. Med lav friktion og exceptionelle mekaniske egenskaber sikrer PEEK CMP-ringe præcision, stabilitet og effektivitet, hvilket bidrager til øget produktivitet og forlænget komponentlevetid i dine CMP-systemer.