kemisk-mekanisk poleringspude

...CMP-ringen af PEEK er designet til optimal ydeevne i kemisk-mekaniske poleringsprocesser (CMP), hvilket tilbyder overlegen holdbarhed og kemisk modstand. Fremstillet af højtydende polyether ether ketone (PEEK) udmærker disse ringe sig i højtemperaturmiljøer og har en fremragende slidstyrke, hvilket gør dem ideelle til krævende applikationer i halvlederindustrien. Med en lav friktionskoefficient...