Spejlpoleret Aluminium Nitrid Keramisk Wafer - Spejlpoleret Aluminium Nitrid Keramisk Wafer til Automobiler

Aluminium-nitrid (AlN) keramik har høj termisk ledningsevne (5-10 gange højere end alumina-keramik), lav dielektrisk konstant og tabfaktor, god isolering og fremragende mekaniske egenskaber, er ikke-giftig, har høj termisk modstand, kemisk modstand, og den lineære ekspansionskoefficient er lig med Si, hvilket gør den bredt anvendt i kommunikationskomponenter, højtydende LED, kraft elektroniske enheder og andre områder. Specielle specifikationsprodukter kan fremstilles efter anmodning. Produktfunktioner: 1. Ensartet mikrostruktur 2. Høj termisk ledningsevne* (70-180 Wm-1K-1), tilpasset via behandlingsbetingelser og tilsætningsstoffer 3. Høj elektrisk resistivitet 4. Termisk ekspansionskoefficient tæt på den for silicium 5. Modstandsdygtighed over for korrosion og erosion 6. Fremragende termisk chokmodstand 7. Kemisk stabil op til 980°C i H2- og CO2-atmosfærer, og i luft op til 1380°C (overfladeoxidation opstår omkring 780°C; overfladelaget beskytter massen op til 1380°C).