Aluminiumoxid keramisk plade - 95 96 99 Aluminiumoxid keramisk plade

Aluminiumoxid (Al2o3) 96% keramiske plader anvendes i vid udstrækning i tyndfilm kredsløb inden for elektronikindustrien. Store integrerede kredsløb, hybrid IC, halvlederpakke, stykke-film modstand, netværk, modstand, fokuseringspotentiometer osv. I henhold til kundernes krav kan vores virksomhed fremstille produkter af særlige typer og specifikationer. Alumina keramisk substrat / plade specifikation: > 10x10x1mm, 20x20x2mm, 40x40x8mm, 100x60x8mm, 150x150x12.5mm, 200x200x25mm osv. > Tykkelsen af den keramiske plade varierer fra 0,25 til 1,0mm Kan fremstilles i henhold til dine krav. Renhed::92%, 95%, 96%, 99%, 99.7% Tykkelsen af den keramiske plade varierer::fra 0,25 til 1,0mm Anvendelse: tyndfilm kredsløb inden for elektronikindustrien