Plasma-overfladebehandlingssystem | Nano - Lavtryksplasmaanlæg, Plasma-overfladebehandlingssystem, Plasma Cleaner

Plasmaanlæg fra Diener electronic har længe vundet indpas i de forskellige industrisektorer. Med lavtryks plasmaanlægget Nano satser du på moderne og fremtidssikret kold plasmateknologi i vakuum. Kammervolumenet på 18 til 24 liter i dette plasmasystem giver tilstrækkelig plads til at betjene både laboratorier og serieproduktion. Plasmabehandlingen i lavtryksplasma er en velafprøvet teknik til kontrolleret finrengøring, forbedring af adhæsion (aktivering og ætsning) samt belægning af tynde lag på substratoverflader. Plasma genereres ved brug af højfrekvent spænding i vakuumkammeret. Her bliver den indførte procesgas ioniseret. Anvendelsesområder: - VOC-fri rengøring af organiske rester - Aktivering før maling, limning, støbning, … - Ætsning af PTFE, fotolak, oxidlag, … - Super-hydrofobe og -hydrofile belægninger Mål (bordmodel): 560 mm x 600 - 860 mm x 600 mm (BxHxD) Mål (standmodel): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (BxHxD) Vakuumkammer materiale: Rustfrit stål, aluminium, kvartsglas (UHP), borosilikatglas (HP) Vakuumkammer mål: Ca. B 240 mm x H 240 mm x T 400 - 420 mm; Ø 267 mm, T 400 - 420 mm Vakuumkammer volumen: Ca. 18 - 24 liter Vakuumkammer lukning: Låg, dør med hængsel Gasforsyning: Nålventiler eller Mass Flow Controller (MFC'er) Generator: 100 kHz; 80 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Trykmåling: Pirani, kapacitetsmanometer Elektroder: efter kundens ønske Kontrol: Halvautomatisk, drejekontakt, Basic PC (Win. CE), Full PC (Win. 10 IoT) Strømforsyning: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vakuumpumpe: Sugestyrke min. 16 m³/h